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                平面抛光机的抛光工艺 返回
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              平面抛光机的抛光工艺是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盘基面上相对运动,使工件表面变得非常高的平整度及光滑度,工件固定不需要强夹、真空、磁铁,只是自然地放置在磨盘上,基本上能适合加工任何金属和非金属材料的工件,镜面研磨机没有了强制性的装夹及一般磨床的刚性磨削,减少的了冲击及发热产生的次生变形,更用利于高精度和高光洁度的加工。即使一个没有经验的操作员也可以轻易使用镜面研磨机获得0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。

              平面抛光机主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体、光电玻璃及其他硬脆材料的双面高精度研磨、抛光。通过控制器,产生高频电振动传输至换能器上。换能器再将输入的超音频电信号转换成机械振动,经地变幅杆放大后,传输至装在变幅杆上的工具头上,再带动附着在工具头上的金刚石或磨料的悬浮液等高速磨擦工件,致使工件表面粗糙度迅速降低,直至镜面,从而实现抛光的功能。

                 
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